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美國JC Nabity納米圖形發(fā)生系統NPGS_EBL電子束曝光
全部分類(lèi)
美國JC Nabity電子束曝光系統(NPGS納米圖形發(fā)生器)

美國JC Nabity電子束曝光系統(NPGS納米圖形發(fā)生器)

自上世紀八十年代成立以來(lái),美國JC Nabity Lithography Systems公司一直致力于基于商品SEM、STEM或FIB的電子束光刻裝置的研制,其研發(fā)的納米圖形發(fā)生器系統(Nanometer Pattern Generation System納米圖形發(fā)生系統,簡(jiǎn)稱(chēng)NPGS,又稱(chēng)電子束微影系統)技術(shù)在全球同類(lèi)系統中屬于翹楚之作,世界各地越來(lái)越多的用戶(hù)包括大學(xué)、科研機構及政府實(shí)驗室在使用NPGS進(jìn)行EBL研究工作.
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