
美國JC Nabity電子束曝光系統(NPGS納米圖形發(fā)生器)
基于SEM/FIB改裝的NPGS V9.1電子束曝光系統
1)NPGS以既有的SEM、STEM或FIB等為基礎,外加電子束控制系統,透過(guò)電腦界面控制電鏡中電子束的矢量掃描,以直接刻寫(xiě)圖形。
2)NPGS系統兼具原SEM的觀(guān)測功能。不影響SEM本身功能。
3)功能強大、操作簡(jiǎn)便、使用靈活。
4)NPGS和當今主流的SEM或FIB等均可配套。
NPGS V9.0是一個(gè)可以控制掃描電鏡電子束的軟件程序。基于電鏡的電子束曝光簡(jiǎn)單分為兩部分:刻寫(xiě)設計和圖形運行。刻寫(xiě)設計是通過(guò)NPGS隨機提供的DesignCAD程序來(lái)做。此CAD程序已經(jīng)過(guò)修改,增加了用于電子束曝光的命令。圖形運行包括設定參數,用于NPGS計算圖形上每個(gè)點(diǎn)的位置以及曝光時(shí)間。
NPGS硬件板卡:定制的微影板卡是基于一個(gè)計算機工作站內部高速PCIe插槽安裝的。主要特點(diǎn)是:
1. 采用16位高速數模轉換輸出,X、Y雙通道同時(shí)輸出,同步掃描頻率5 MHz,兼容6MHz,電子束駐留時(shí)間最小增量0.5納秒,且所有頻率下均能達到這個(gè)分辨率。
2. 刻寫(xiě)掃描方式:矢量掃描方式和位圖掃描方式。
3. 集成的電子束閘控制輸出。
4. 圖像獲取采用集成的16位模數轉換輸入。
5. 基于PCIe插槽,安裝方便,運行可靠。
電子束阻斷器(束閘):電場(chǎng)型高速束閘。NPGS系統也支持無(wú)束閘運行。
皮可安培計:基于SEM的電子束曝光系統需要一個(gè)皮安計,它可精確讀出轟擊樣品的電子束束流。通常,需要從電鏡載物臺外接一個(gè)皮安計與樣品電流輸出相連。
電鏡束流:NPGS能可選連接控制法拉第杯和/或從皮可安培計讀數,但大多數用戶(hù)會(huì )采用手動(dòng)控制的法拉第杯和皮可安培計。
電鏡參數及電動(dòng)臺控制:免費提供幾款通用的電鏡數字驅動(dòng)程序及載物臺驅動(dòng)程序。如果有串口通訊協(xié)議,本系統支持任何外部控制。
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